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《纳米技术纳米二氧化硅表面硅羟基含量的测定反应气相色谱法》标准立项修订与发展报告

纳米技术纳米二氧化硅表面硅羟基含量的测定反应气相色谱法标准发展报告

标准号T-491

EnglishTitle

StandardDevelopmentReportforNanotechnology—DeterminationofSilanolContentontheSurfaceofNano-Silica—ReactionGasChromatography

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摘要

纳米二氧化硅作为最重要的纳米材料之一，在橡胶补强、涂料增稠、电子封装、生物医药及复合材料等领域具有广泛应用。表面硅羟基含量是决定纳米二氧化硅表面化学活性、分散性能及后续功能化改性效果的关键参数，其准确测定对于材料质量控制和应用性能优化具有重要意义。然而，由于纳米二氧化硅比表面积大、表面状态复杂，传统测定方法存在操作繁琐、灵敏度低、重复性差等问题。本报告围绕国家标准计划《纳米技术纳米二氧化硅表面硅羟基含量的测定反应气相色谱法》（计划号T-491）的制定工作，系统阐述了该标准的立项背景、技术原理、制定过程及预期应用价值。该标准由全国纳米技术标准化技术委员会（TC279）归口，TC279SC1纳米材料分会执行，主管部门为中国科学院。标准采用反应气相色谱法，通过