半导体废酸废碱处理运行规程.docx

半导体废酸废碱处理运行规程

1.范围与目的

本运行规程详细阐述了半导体制造过程中产生的废酸、废碱及含氟废水处理系统的操作、维护、安全及应急处理程序。本规程旨在规范废水处理站运行人员的操作行为，确保废水处理系统稳定、高效运行，保证排放水质严格符合国家及地方相关排放标准（如GB8978-1996及半导体行业特有的地方标准），防止环境污染，保障人员安全，并实现合规处置。

本规程适用于半导体Fab（晶圆厂）废水处理站所有操作人员、技术管理人员及相关维护人员。涵盖的废水类型包括但不限于：含氟废水（HF）、高浓度酸碱废水、低浓度酸碱废水（清洗废水）、含铜/氨氮等特殊污染物的酸性废水等。

2.规范性引用