《集成电路用光掩模保护膜》标准立项修订与发展报告.docx

《集成电路用光掩模保护膜》标准立项修订与发展报告

集成电路用光掩模保护膜标准发展报告

标准号T-469

EnglishTitle:StandardDevelopmentReportforPellicleforPhotomaskUsedinIntegratedCircuits

摘要

光掩模保护膜（Pellicle）是集成电路制造光刻工艺中的关键耗材，其性能直接决定光掩模的洁净度保持能力与光刻图形质量，进而影响芯片制造的良率与可靠性。随着集成电路制程节点不断向5纳米及以下推进，极紫外（EUV）光刻技术的商业化应用对光掩模保护膜提出了极为苛刻的要求，包括更