CN119839316A 一种经选择性局部优化的面心立方点阵的打印方法 （之江实验室）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119839316A

(43)申请公布日2025.04.18

(21)申请号202510330565.4

(22)申请日2025.03.20

(71)申请人之江实验室

地址311121浙江省杭州市余杭区中泰街

道科创大道之江实验室

(72)发明人杨洋李沐蓉王赛张宇陈立朋

(74)专利代理机构北京博思佳知识产权代理有限公司11415

专利代理师李威

(51)Int.Cl.

B22F10/28(2021.01)

B22F10/85(2021.01)

C22C21/08(2006.01)

B33Y10/00(2015.01)

B33Y50/02(2015.01)

B33Y70/00(2020.01)

权利要求书2页说明书7页附图4页

(54)发明名称

一种经选择性局部优化的面心立方点阵的

打印方法

(57)摘要

CN119839316A本申请提供一种经选择性局部优化的面心立方点阵的打印方法。该方法包括获取目标打印物的点阵结构模型。模拟所述点阵结构模型从弹性形变状态到屈服状态的应力集中路径。根据所述应力集中路径将所述点阵结构模型中的承载支柱分解为非主承载支柱和主承载支柱。对所述主承载支柱的至少部分结构进行变径优化处理，以得到优化后的主承载支