薄膜材料与技术入门试题含评分标准
考试时间:______分钟总分:______分姓名:______
沉积CVD的基本原理是将一种或多种前驱体气体引入反应区在高温或催化剂作用下这些气体在基板表面发生化学反应生成固态薄膜并沉积在基板上CVD与PVD的主要区别在于物理状态不同CVD是化学反应过程PVD是物理过程如蒸发溅射沉积速率不同CVD速率通
一、选择题(每题2分,共20分)
1.以下哪种材料或结构通常被称为薄膜?
A.块体金属锭
B.
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