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2025年真空镀膜操作员真题试卷及答案

考试时间：______分钟总分：______分姓名：______

1.真空镀膜中，真空度的国际标准单位是（）。

A.Torr

B.mbar

C.Pa

D.atm

2.磁控溅射工艺中，提高溅射功率的主要作用是（）。

A.增加真空度

B.提高沉积速率

C.降低基片温度

D.减少靶材消耗

3.下列哪种气体最常用于磁控溅射的工作气体？（）

A.氧气

B.氮气

C.氩气

D.氢气

4.真空系统中，分子泵的主要功能是（）。

A.初级真空抽气

B.高真空抽气

C.维持大气压

D.清洁腔体

5.薄膜附着力差的可能原因不包括（）。

A.基片清洗不彻底

B.真空度过高

C.沉积温度过低

D.表面能不足

6.在PVD工艺中，“靶中毒”现象通常由（）引起。

A.氩气流量过高

B.氧气或氮气杂质进入

C.靶材功率过低

D.基片温度过高

7.石英晶体微天平（QCM）用于测量（）。

A.真空度

B.