2026扇出型封装良率提升关键因素与工艺优化建议报告
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TOC\o1-3\h\z\u摘要 3
一、扇出型封装技术现状与2026年良率挑战综述 5
1.1扇出型封装技术演进与主流平台对比 5
1.22026年目标良率及关键瓶颈识别 8
二、晶圆级扇出(WLP)与面板级扇出(PLP)的良率差异分析 11
2.1工艺平台选择对良率的影响 11
2.2基板/载板材料与翘曲控制的关联性 14
三、RDL(重布线层)制程关键良率因素与优化 19
3.1光刻与曝光精度控制 19
3.2刻蚀/沉积均匀性与侧壁形貌管理 22
四、
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