CN119854635A 一种粒子压痕对焦机构及对焦方法 (杭州烽和智能科技有限公司).docxVIP

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  • 2026-09-08 发布于山西
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CN119854635A 一种粒子压痕对焦机构及对焦方法 (杭州烽和智能科技有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119854635A

(43)申请公布日2025.04.18

(21)申请号202510329139.9

(22)申请日2025.03.20

(71)申请人杭州烽和智能科技有限公司

地址310061浙江省杭州市西湖区西溪街

道马塍路36号1幢5层5590室

(72)发明人魏新刘会祥彭池榨钟力行

(74)专利代理机构杭州六方于义专利代理事务所(普通合伙)33392

专利代理师潘钦颖

(51)Int.Cl.

H04N23/67(2023.01)

H04N3/16(2006.01)

权利要求书2页说明书5页附图6页

(54)发明名称

一种粒子压痕对焦机构及对焦方法

(57)摘要

CN119854635A本发明公开一种粒子压痕对焦机构及对焦方法,线扫驱动组件和检测组件,检测组件移动连接于线扫驱动组件;检测组件包括沿粒子压痕检测移动方向平行设置的测距装置和粒子检测相机,测距装置位于粒子检测相机移动方向的前方,粒子检测相机的视野中心与粒子压痕上的测距点偏移。本发明不仅可以通过高速对焦获取粒子压痕的移动轨迹曲线,再通过自动跟随轨迹线扫拍照,对焦速度快,对焦误差小,提高图像的清晰度,而且可以避免因通讯延时问题造成的干

CN119854635A

CN11985

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