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集群磁流变抛光中分布式电磁铁结构的创新设计与优化策略研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代精密加工领域，随着科技的飞速发展，对光学元件、电子器件等产品的表面质量和精度要求日益严苛，传统抛光技术在面对复杂形状和高精度要求时逐渐显露出局限性。磁流变抛光技术应运而生，作为一种新型的超精密加工技术，它利用磁流变液在磁场作用下的流变特性，实现对工件表面的高精度抛光，在提升工件表面质量方面具有显著优势。

集群磁流变抛光技术基于集群原理和旋转磁极动态磁场磁流变效应，通过多点阵列集群磁流变效应柔性研磨刷构成抛光盘进行抛光加工，既克服了传统游离磨料抛光方法不均匀、不稳定的缺点，又避免了固着磨料研磨抛光中的硬接触问题，在微纳米表面制造和大面积磨光加工中展现出高效、高精度、无污染等特性，为精密加工提供了新的思路和方法，成为当前研究的热点。

而在集群磁流变抛光技术中，磁场的均匀性和强度对磁流变液的性能以及最终的抛光效果起着决定性作用。分布式电磁铁结构作为产生磁场的关键部件，相较于传统的单一大型电磁铁，能够显著提高磁场的均匀性和控制精度，还可以降低电磁铁的制造和安装成本，从而有效提升集群磁流变抛光的效果和效率。因此，对用于集群磁流变抛光的分布式电磁铁结构进行设计及优化研究，具有重要的理论意义和实际应用价值，有望推动精密加工技术迈向新的高度。

1.2国内外研究现状

国外对磁流变抛光技术的研究起步较