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- 2026-09-09 发布于江苏
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（1）光刻胶为晶圆制造核心材料，受益于AI浪潮需求景气向上。光刻胶是一类对光或其他辐射敏感的高分子材料，
经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。按光源波长，半导
体光刻胶可分为g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）及EUV（13.5nm），价值量与技术壁垒依次
提升：g/i线主要用于功率器件、模拟芯片、M
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