GB/T47080-2026《金刚石单晶抛光片位错密度的测试方法》标准立项发展报告
StandardizationDevelopmentReport:TestMethodforDislocationDensityofPolishedMonocrystallineDiamondWafers
摘要
金刚石单晶作为第三代宽禁带半导体材料的终极代表,凭借其超宽禁带(5.47eV)、极高的击穿场强(10MV/cm)、优异的载流子迁移率(电子迁移率可达4500cm2/V·s)以及无与伦比的热导率(2200W/(m·K),约为铜的5倍),在功率电子器件、高频通信、量子计算和
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