CN119592114A 一种光学镀膜拓印涂层及其制备方法和应用 (松井新材料集团股份有限公司).pdfVIP

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  • 2026-09-09 发布于重庆
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CN119592114A 一种光学镀膜拓印涂层及其制备方法和应用 (松井新材料集团股份有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119592114A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202411589423.1C09D4/02(2006.01)

C23C14/06(2006.01)

(22)申请日2024.11.08

H04M1/02(2006.01)

(71)申请人松井新材料集团股份有限公司C08J7/04(2020.01)

地址410000湖南省长沙市宁乡经济技术C08L63/00(2006.01)

开发区三环北路777号

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