GBT 47926-2026 半导体用磁悬浮自轴承洁净泵技术规范标准立项发展报告.docxVIP

半导体用磁悬浮自轴承洁净泵技术规范

标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:TechnicalSpecificationforMagneticLevitationSelf-bearingCleanPumpsforSemiconductorApplications

摘要

随着半导体制造工艺向3nm及以下先进制程推进，芯片制造过程对输送介质的气体纯度和洁净度要求达到了前所未有的严格程度。传统机械轴承泵因存在摩擦磨损、颗粒产生、润滑油泄漏等问题，已难以满足先进制程对洁净输送环境的严苛需求。磁悬浮自轴承洁净泵作为融合磁悬浮轴承技术、自轴承电机技术与洁净流体输送技术的新一代核心装备，通过主动电磁悬浮实现转子无接触运行，从根本上消除了机械摩擦产生的颗粒污染源，为半导体工艺气体和化学液体输送提供了理想的技术解决方案。本报告围绕国家标准GB/T47926-2026《半导体用磁悬浮自轴承洁净泵技术规范》的立项背景、编制历程、技术内容及行业影响进行系统阐述，从全球半导体产业竞争格局出发分析我国在该领域制定自主标准的战略必要性与迫切性。报告详细梳理了标准涵盖的技术要求体系，比较分析了国内外相关标准现状，明确了本标准的编制原则、主要技术指标及其科学依据，并对标准实施后对我国半导体装备制造能力提升、产业链自主可控水平增强以及国际标准话语