DSISO 19383-2026 原子层沉积 前驱体化学特性及工艺规范 标准立项发展报告.docx

原子层沉积前驱体化学特性及工艺规范标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:AtomicLayerDeposition–ChemicalCharacteristicsandRelatedProcessSpecificationsofAtomicLayerDepositionPrecursors

摘要

随着半导体制造、新能源、纳米功能材料等战略性产业向亚3纳米及以下技术节点快速演进，原子层沉积技术凭借其亚单层厚度可控性、优异的三维保形性和精确的组分调控能力，已成为先进制程中不可或缺的核心薄膜制备工艺。原子层沉积前驱体