CN119421428A 接触孔及其制备方法、半导体器件、电子设备 (上海积塔半导体有限公司).pdfVIP

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  • 2026-09-10 发布于重庆
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CN119421428A 接触孔及其制备方法、半导体器件、电子设备 (上海积塔半导体有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119421428A

(43)申请公布日2025.02.11

(21)申请号202411587376.7

(22)申请日2024.11.07

(71)申请人上海积塔半导体有限公司

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