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北京工业大学《电子科学与技术》模拟考试试卷（含答案）

考试时间：______分钟总分：______分姓名：______

一、选择题（本大题共20小题，每小题2分，共40分。在每小题列出的四个选项中，只有一项是最符合题目要求的，请将正确选项字母填在题后的括号内。）

1.半导体材料的禁带宽度主要由以下哪个因素决定？（）

A.材料的晶格结构

B.材料的原子序数

C.材料的温度

D.材料的掺杂浓度

2.在PN结中，当P型半导体和N型半导体接触时，扩散电流和漂移电流哪个占主导？（）

A.扩散电流

B.漂移电流

C.两者平衡

D.两者均无

3.晶体管的放大作用主要体现在哪个区域？（）

A.饱和区

B.截止区

C.放大区

D.饱和区和截止区

4.在数字电路中，TTL电路和CMOS电路哪个功耗更低？（）

A.TTL电路

B.CMOS电路

C.两者相同

D.无法比较

5.集成电路制造过程中，光刻工艺的主要作用是什么？（）

A.刻蚀电路图案

B.沉积绝缘层

C.掺杂半导体

D.清洗晶圆表面

6.在模拟电路中，运算放大器