《YST 43-2026高纯砷》培训课件.pptxVIP

《YS/T43-2026高纯砷》培训

目录

02

术语定义与分类

01

标准概述与背景

03

技术要求详解

04

试验方法规范

05

检验规则与判定

06

包装、运输与贮存

标准概述与背景

01

标准修订目的与意义

高纯砷作为砷化镓等化合物半导体的关键原料，其纯度直接影响器件性能。新版标准顺应5G通讯、航空航天等领域对极高纯度材料的需求，助力半导体产业高质量发展。

产业升级驱动

本次修订显著提高了As7n牌号的杂质控制水平，并新增As7n5牌号，严格规范了极微量元素的限值，为高端半导体材料的研发与生产提供权威技术支撑。

提升杂质控制

适用范围界定

本标准适用于质量分数不小于99.999%的高纯砷产品，涵盖颗粒状和棒状两种物理形态，明确了不同形态产品的技术要求与检验规范。

产品形态与纯度

标准全面规定了高纯砷的分类、技术要求、试验方法、检验规则以及包装、运输等全生命周期内容，适用于相关企业的生产控制与质量验收。

标准内容覆盖

01

02

主要技术变化说明

牌号与尺寸扩充

相较于2011版，本版新增了As7n5牌号及对应化学成分要求，同时新增了直径10mm~130mm的棒状产品尺寸规格，以满足不同半导体器件的制备需求。

检测与计量优化

标准增加了辉光放电质谱法作为检测方法，提升了超痕量杂质分析的准确性；同时删除了净重及允许差要求，使标准更聚焦于核心质量指标。

杂质指标加严

大幅提升了