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- 2026-09-14 发布于四川
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1996年2月
N
NDS9400A
单P沟道增强型场效应晶体管
概述特点
这些P沟道增强型功率场效应晶体管采用National的专有高单‑3.4A,‑30V。R=0.13@
V=‑10V。度单元
DS(ON)GS
元密度DMOS技术制造。这种极度的工艺特别设计用于最DS(ON)
设计实现极低的R。具有高功率和电流处理能力,在
小化导通电阻,卓越的
1996年2月
N
NDS9400A
单P沟道增强型场效应晶体管
概述特点
这些P沟道增强型功率场效应晶体管采用National的专有高单‑3.4A,‑30V。R=0.13@
V=‑10V。度单元
DS(ON)GS
元密度DMOS技术制造。这种极度的工艺特别设计用于最DS(ON)
设计实现极低的R。具有高功率和电流处理能力,在
小化导通电阻,卓越的
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