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- 2026-09-16 发布于福建
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YS/T1864-2026颗粒硅表面金属含量测定方法
标准概述
方法原理
设备与材料
操作流程
质量控制
结果与报告
应用领域
目录
标准概述
01
标准名称与适用范围
行业针对性
专为光伏、半导体等对硅材料纯度要求严苛的行业设计,填补了颗粒硅表面金属检测标准的空白。
适用范围
适用于流化床法制备的颗粒硅表面铁、铬、镍等15种金属杂质元素的定量分析,检测范围覆盖0.05ng/g~1000ng/g,满足高纯材料质量控制需求。
标准名称
《流化床法颗粒硅表面金属含量的测定酸浸取-电感耦合等离子体质谱法》(YS/T1864-2026),明确规定了颗粒硅表面金属杂质检测的技术路径和仪器方法。
该标准系统规范了从样品前处理到仪器分析的完整流程,确保检测数据的准确性和可比性。
采用硝酸-氢氟酸混合液浸取表面金属,优化浸取时间和温度参数,避免基体溶解干扰。
酸浸取方法
详细规定等离子体功率、载气流量等仪器条件,通过质荷比分离定量各元素,检出限低至0.05ng/g。
ICP-MS检测技术
包含空白试验、平行样偏差控制及标准物质校准等环节,确保检测结果可靠性。
质量控制要求
主要技术内容提要
统一酸浸取流程和ICP-MS参数,减少实验室间检测差异,提高数据可比性。
明确方法检出限和允许差,为不合格品判定提供权威依据。
标准实施意义
提升检测效率与一致性
助力光伏行业把控颗粒硅原料质量,降低金
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