紫外线结合SC1工艺去除蚀刻残留物研究.pdfVIP

固态现象第195卷（2013）页码114-118©(2013)Trans：2012-12-27

TechPublications,Switzerland

doi:10.4028/

湿式去除蚀刻后残留物的一种结合方法：紫外线照射和SC1工艺

aabba

E.凯斯特斯,Q.T.勒,I.西姆斯,K.纳福斯,H.斯特鲁夫和

S.德根特a

aImec,Kapeldreef75,3001Leuven,比利时b

东京电子,IMEC的附属机构,比利时

kesterse@imec.be

：蚀刻后残留物,紫外线处理,SC1,低‑ksub2.0/sub,BEOL.

简介

在后端制程（BEOL）中，在蚀刻过程中沉积在介电层侧壁上的聚合物必须在后续加工步骤

之前被去除，以实现高粘附性和蚀刻特征中沉积材料的良好覆盖[1,2]。通常，这是通过短等

离子体处理和稀释的湿法清洁的组合来完