T/CI 1458-2026正性薄膜晶体管(TFT)光刻胶通用技术要求.pdf

T/CI1458-2026标准主要内容包括：

1.薄膜晶体管（TFT）光刻胶的基本性能要求，包括物理性能、化学性能、环境稳定性等。

2.对不同类型的光刻胶材料，如环氧树脂型、聚酰亚胺型、聚酯型等，应具有的特性和性能要求。

3.对光刻胶的涂布工艺、显影工艺、蚀刻工艺等制备过程的要求，以确保光刻胶的质量和性能。

4.对光刻胶的安全性要求，包括对操作人员、环境以及产品本身的安全性。

5.对光刻胶的检测方法和技术要求，包括外观检测、粒度检测、折射率检测、密度检测、黏度检测等。

6.对光刻胶的耐候性、耐溶剂性、耐高温等特殊性能的要求。

7.对光刻胶的可靠性测试方法和技术要求，包括老化测试、耐电压测试、耐腐蚀测试等。

以上是T/CI1458-2026标准的主要内容，包括对光刻胶的基本性能要求、制备过程要求、安全性要求、检测方法和技术要求等。