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《gb-t31987-2026电子气体锗烷》培训

目录

02

术语与分类

01

标准概述

03

技术要求

04

试验方法

05

检验规则

06

包装、安全与储运

标准概述

01

标准制定背景与目的

产业升级需求

随着集成电路制程精度不断提升，8英寸及以上晶圆制造对锗烷纯度要求日益严苛，原2013版标准已无法完全匹配当前高端半导体工艺的应用需求。

新版标准旨在通过细化杂质限量指标，明确金属元素和颗粒检测要求，确保电子气体锗烷在硅锗外延等关键制造环节中的高可靠性与良率。

标准修订旨在统一锗烷生产企业与用户单位的技术规范，完善检验规则与储运指导，推动我国电子气体行业高质量健康发展。

杂质精细化控制

促进行业规范

标准适用范围界定

生产企业管理

适用于锗烷生产企业的技术控制、质量检验与出厂把关，指导企业建立科学严谨的抽样方案与合格判定准则，保障批次产品质量稳定。

为半导体制造等用户单位在采购验收、存储使用环节提供技术依据，帮助用户准确评估气体质量是否满足特定高精度工艺场景需求。

为相关第三方检测机构提供标准化的试验方法指南，规范气相色谱法、质谱分析等现代分析技术的操作步骤与技术参数设定。

用户单位验收

检测机构规范

标准编制核心原则

协商定制原则

在保障纯度≥99.999%的普适基准上，针对乙锗烷、金属元素及颗粒等特殊指标，保留供需双方商定的灵活空间，满足多样化应用需求。

安全可控原则