原创力文档半导体常见气体的用途
1、硅烷（SiH4）：有毒。硅烷在半导体工业中主要用于制作高纯多晶硅、通过
气相淀积制作二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、多晶硅隔离层、多晶硅欧姆接触层和
异质或同质硅外延生长原料、以及离子注入源和激光介质等，还可用于制作太阳
DCVDCVDCVD离子注入CVDCVDCVD掺杂混合气在半导体器件和集成电路制造中将某些杂质掺入半导体材料内使材料具有所需要的导电类型和一定的电阻率以制造电阻PN结埋层等掺杂工艺所用的气体
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