CN119247709A 一种用于负胶光刻工艺的去边胶方法 （中国科学院上海微系统与信息技术研究所）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119247709A

(43)申请公布日2025.01.03

(21)申请号202411559399.7

(22)申请日2024.11.04

(71)申请人中国科学院上海微系统与信息技术

研究所

地址200050上海市长宁区长宁路865号

(72)发明人万文坚曹俊诚黎华

(74)专利代理机构上海泰博知识产权代理有限

公司31451

专利代理师魏峯

(51)Int.Cl.

G03F7/42(2006.01)

G03F7/26(2006.01)

G03F7/16(2006.01)

G03F7/38(2006.01)

G03F7/