YST 1825-2025 集成电路用四甲基硅烷标准立项发展报告.docxVIP

集成电路用四甲基硅烷标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:TetramethylsilaneforIntegratedCircuitApplications

摘要

四甲基硅烷（Tetramethylsilane，简称4MS或TMS）作为集成电路制造中化学气相沉积（CVD）和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）工艺的关键前驱体材料，广泛应用于二氧化硅薄膜、碳化硅薄膜及低介电常数薄膜的制备。随着我国集成电路产业的高速发展，对高纯度四甲基硅烷的需求日益增长，对其纯度、杂质含量及分析方法提出了更为严格的要求。本标准（YS/T1825-2025）由行业标准-有色金属领域发布，于2025年12月17日发布，2026年7月1日正式实施。本标准规定了集成电路用四甲基硅烷的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及安全等内容，适用于集成电路制造用高纯度四甲基硅烷产品。本标准的制定填补了国内集成电路用四甲基硅烷产品标准的空白，对于规范市场秩序、保障产品质量、促进产业上下游协同发展具有重要意义。

关键词：四甲基硅烷；集成电路；电子特气；化学气相沉积；标准；有色金属；半导体材料

Keywords:Tetramethylsilane;IntegratedCircuit;ElectronicSpecialtyGas;Ch