光刻用掺钛石英玻璃标准立项发展报告
EnglishTitle:StandardizationDevelopmentReport:TitaniaDopedSilicaGlassforLithography
摘要
随着半导体制造工艺向7nm及以下技术节点演进,光刻技术对光学材料的性能要求日益严苛。掺钛石英玻璃因其近零热膨胀系数、优异的光学均匀性和化学稳定性,成为极紫外光刻(EUVL)光掩模基板及高端光学系统的关键材料。然而,长期以来该材料缺乏统一的国家标准,导致产品质量参差不齐、检测方法各异、国际贸易受阻。GB/T45826-2025《光刻用掺钛石英玻璃》于2025年正式发
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