- 0
- 0
- 约2.77千字
- 约 4页
- 2026-10-16 发布于广东
- 举报
PAGE
SEMIC3系列晶圆制造高纯氮气品质规范(中文工程参考译本)
重要前置澄清
1.不存在SEMIF75-23《晶圆制造高纯氮气品质规范》。SEMIF75的标准全称为SEMIF75《GuideforQualityMonitoringofUltrapureWaterUsedinSemiconductorManufacturing》(半导体制造用超纯水质量监测指南,现行版本F75-0521),是超纯水标准而非氮气标准,也没有F75-23版本。晶圆制造高纯氮气对应的SEMI标准为C系列(SEMIC59、SEMIC3.5、SEMIC3.15等)。
2.SEMI标准版权受保护,SEMI官方不公开免费完整中文版全文,网络亦无官方授权完整中文译本。本文档为行业工程参考译本(摘要加核心技术条款),仅供厂务工程内部参考,不可作为正式合规原版文件使用。
3.ASTMF75-23为外科植入用钴铬钼合金材料标准,与半导体制造无关,请勿与SEMI标准混淆。
晶圆厂高纯氮气规范应参照SEMIC3(SpecificationforGases)、SEMIC3.5(大宗液氮)、SEMIC3.15(钢瓶高纯氮气)、SEMIC59(氮气总规范)及SEMIC6.4(管道颗粒等级)执行。
1范围
本规范适用于半导体晶圆制造工艺所用的高纯氮气(N?),涵盖大宗液态液
原创力文档

文档评论(0)