磁控溅射法制备导电薄膜完整实验指导.pdf

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实验三十六磁控溅射法制备导电薄膜

实验名称:磁控溅射法制备导电薄膜

实验项目性质:综合训练

所涉及课程:薄膜电子材料与元器件,电子信息材料科学基础,真空技术基础

子的能量种类靶材的种类入射离子的入射角等因素有关溅射原子的能量和速度溅射原子的平均逸出能量随入射离子能量的增加而增加在相同轰击能量下原子逸出能量随入射离子质量线性增加不同靶材具有不同的原子逸出能量溅射率高的靶材料原子平均逸出能通常较低具体溅

计划学时:3学时

一、实验目的

1.了解真空的

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