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集成电路电迁移分析与低功耗设计.pdfVIP

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  • 2026-10-19 发布于北京
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集成电路电迁移分析与低功耗设计.pdf

    3

    电迁移

    集成电路中的电迁移是指由于电流通过内的金属线（尤其是分配

    电源的金属线）流动而引起的金属离子移动。这种不希望发生的离子

    移动可能会在某些部分形成金属空洞，并在其他部位堆积金属。

    在金属迁移的处，空洞会增加受影响导线的电阻，在情

    况下甚至会导致导线完全断裂。而在迁移路径的接收端，金属堆积形

    成的丘陵状结构，在情况下可能会相邻导线之间的间隙，导

    致短路[5]。

    本章分为四个部分，如下

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