CN119419194A 预掺杂工艺测试结构及其制作方法、预掺杂工艺测试方法 (上海积塔半导体有限公司).pdfVIP

  • 2
  • 0
  • 约1.84万字
  • 约 19页
  • 2026-10-18 发布于重庆
  • 举报

CN119419194A 预掺杂工艺测试结构及其制作方法、预掺杂工艺测试方法 (上海积塔半导体有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119419194A

(43)申请公布日2025.02.11

(21)申请号202411505901.6G01R1/02(2006.01)

G01N27/00(2006.01)

(22)申请日2024.10.25

G01N27/22(2006.01)

(71)申请人上海积塔半导体有限公司G01B21/00(2006.01)

地址201306上海市浦东新区中国(上海)

G01B21/02(20

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档