CN118957528A 一种图形化良好附着力的高反射层及其制备方法和应用 (长沙韶光芯材科技有限公司).pdfVIP

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  • 2026-10-19 发布于重庆
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CN118957528A 一种图形化良好附着力的高反射层及其制备方法和应用 (长沙韶光芯材科技有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN118957528A

(43)申请公布日2024.11.15

(21)申请号202411451985.XC23C14/02(2006.01)

C23C14/10(2006.01)

(22)申请日2024.10.17

C23C14/58(2006.01)

(71)申请人长沙韶光芯材科技有限公司C23C14/54(2006.01)

地址410129湖南省长沙市中国(湖南)自

C23C14/06(2

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