《电子工业超纯水紫外线降解总有机碳系统应用技术规程》.pptxVIP

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  • 2026-10-21 发布于北京
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《电子工业超纯水紫外线降解总有机碳系统应用技术规程》.pptx

汇报人:XXX;目录;;半导体超纯水TOC新标准演进(≤0.5ppb至≤0.3ppb);针对原水有机物本底偏高问题,前端增配活性炭与臭氧预处理,将大分子有机物及余氯在进反渗透前降解掉,大幅降低后端核心制水设备的TOC负荷。;循环分配系统防死水区与材质升级改造;;185nm真空紫外光解生成羟基自由基机制;;;;;;;;;;;;;;常规工艺协同去污;;预处理、RO产水与终端抛光三段TOC在线监测;实时数据采集;高温消杀工况耐压设计与生物膜定期清除;THANKS

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