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深紫外光刻用Al_(2)O_(3)和AlF_(3)薄膜在不同基底上的力学特性量化分析(特邀).pdfVIP

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  • 2026-10-22 发布于江西
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深紫外光刻用Al_(2)O_(3)和AlF_(3)薄膜在不同基底上的力学特性量化分析(特邀).pdf

    第3卷第3期/2026年2月/光学学报(网络版)特邀研究论文

    深紫外光刻用AlO和AlF薄膜在不同基底上的力

    233

    学特性量化分析（特邀）

    1，21，211，21，3111，2*1，2，4

    李建，王蒙雷，周璟超，王焜，刘淏，谢明辰，蔡轩皓，张伟丽，邵宇川

    1中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学研发中心，上海201800；

    2中国科学院大学材料科学与光电子工程中心，北京100049；

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