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2026 年哈工大溅射工艺往年考试真题回顾.docx

2026 年哈工大溅射工艺往年考试真题回顾.docx

    2026年哈工大溅射工艺往年考试真题回顾

    姓名：__________考号：__________

    题号

    一

    二

    三

    四

    五

    总分

    评分

    一、单选题(共10题)

    1.溅射镀膜中，靶材表面的溅射速率与以下哪个因素无关？()

    A.靶材与基片的距离

    B.溅射气压

    C.靶材种类

    D.溅射功率

    2.在磁控溅射中，以下哪种情况下，磁控溅射的效率最高？()

    A.靶材温度较低时

    B.靶材温度较高时

    C.磁场强度较弱时

    D.磁场强度较强时

    3.以下哪种溅射方法主要用于制备高质量的超硬薄膜？()

    A.磁控溅射

    B.电子束溅射

    C.反向溅射

    D.靶

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