CN119177372A 一种高纯铜溅射靶材及其制备方法 （中铜华中铜业有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119177372A

(43)申请公布日2024.12.24

(21)申请号202411444851.5

(22)申请日2024.10.16

(71)申请人中铜华中铜业有限公司

地址435000湖北省黄石市下陆区陆家铺

(72)发明人马凌志赵智勇陈忠平向朝建

童维玉马文方禹王兴胡涛

潘菲李小飞

(74)专利代理机构武汉红观专利代理事务所

(普通合伙)42247

专利代理师黄鑫

(51)Int.Cl.

C22C9/00(2006.01)

B22D11/00(2006.01)

C22F1/08(2006.01)