集成电路制造技术 课件 第二章-光刻工艺.pptx

集成电路制造技术

光刻工艺

一、光刻工艺概述二、光刻工艺流程三、匀胶显影机四、光刻机五、光刻掩模版六、计算光刻

第一节光刻工艺概述

集成电路制造的主要工序在整个集成电路制造工艺中，光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的35%，并且耗费时间约占整个芯片工艺的40%-60%。集成电路制造中光刻工艺的作用光刻是前道制造的核心环节

光刻技术和设备的不断发展推动摩尔定律延续集成电路制造中光刻工艺的作用半导体技术的发展和摩尔定律的延续，主要归功于光刻技术和设备的不断发展

光刻基本原理1.业界主流光刻类型半导体制造中光刻曝光工艺发展进程及分类

光刻基本原理2.投影式曝光投影式光刻投影式光刻=用光将掩模