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- 2026-10-30 发布于河南
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考点3离子反应
一、选择题
1.(2024·全国甲卷·8)下列过程对应的离子方程式正确的是()
A.用氢氟酸刻蚀玻璃:SiO32-+4F-+6H+SiF4↑+3H2
B.用三氯化铁溶液刻制覆铜电路板:2Fe3++3Cu3Cu2++2Fe
C.用硫代硫酸钠溶液脱氯:S2O32-+2Cl2+3H2O2SO32-+4Cl
D.用碳酸钠溶液浸泡锅炉水垢中的硫酸钙:CaSO4+CO32-CaCO3+S
【解析】选D。A.玻璃的主要成分为SiO2,用氢氟酸刻蚀玻璃时,SiO2和氢氟酸反应生成SiF4气体和水,反应的离子方程式为SiO2+4HFSiF4↑+2H2O,A错误;B.Fe3+可以将Cu氧化成Cu2+,Fe3+被还原成Fe2+,用三氯化铁溶液刻制覆铜电路板时反应的离子方程式为2Fe3++Cu2Fe2++Cu2+,B错误;C.氯气具有强氧化性,可以将硫代硫酸根离子氧化成硫酸根离子,氯气被还原为氯离子,反应的离子方程式为S2O32-+4Cl2+5H2O2SO42-+8Cl-+10H+,C错误;D.碳酸钙的溶解度小于硫酸钙,可以用碳酸钠溶液浸泡锅炉水垢使硫酸钙转化为疏松、易溶于酸的碳酸钙,反应的离子方程式为CaSO4+CO32-CaCO3+S
2.(2024·湖南选择
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