原子层沉积 原子层沉积前驱体的化学特性及相关工艺规范 标准立项发展报告.docx

原子层沉积原子层沉积前驱体的化学特性及相关工艺规范标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:AtomicLayerDeposition–ChemicalCharacteristicsandRelatedProcessSpecificationsofAtomicLayerDepositionPrecursors

【摘要】

原子层沉积技术凭借自限制性表面反应、原子级厚度控制与优异的三维共形覆盖能力，已成为先进半导体制造、新型显示、光伏、储能器件及功能防护涂层等领域的核心薄膜制备技术。前驱体作为原子层沉积工艺的物质基础，