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- 2026-11-09 发布于北京
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精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷)分析多类型硼和氮掺杂SiC晶体的紫外光致发光图像试验方法标准立项发展报告
StandardizationDevelopmentReport:FineCeramics(AdvancedCeramics,AdvancedTechnicalCeramics)—UltravioletPhotoluminescenceImageTestMethodforAnalysingPolytypesofBoron-andNitrogen-DopedSiCCrystals
摘要
碳化硅(SiC)作为第三代宽禁带半导体材料的代表,在功率器件、射频器件及高温电子器件等领域具有广阔的应用前景。SiC晶体中多型体的类型、分布及掺杂均匀性直接影响器件的电学性能和可靠性。硼(B)和氮(N)作为SiC中常见的掺杂元素,其掺杂行为与多型体结构密切相关,因此建立准确、高效的多型体分析方法对于材料质量控制与工艺优化具有重要意义。ISO21820-2021《精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷)——分析多类型硼和氮掺杂SiC晶体的紫外光致发光图像试验方法》于2021年2月17日正式实施,该标准规定了利用紫外光致发光(UV-PL)图像技术对硼和氮掺杂SiC晶体多型体进行分析的试验方法,涵盖样品制备、测试设备要求、测试条件、图像采集与数据处理等关键
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