CN119252843A 一种低压高比容电极箔生产的化成装置及化成方法 (扬州宏远电子股份有限公司).pdfVIP

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  • 2026-11-06 发布于重庆
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CN119252843A 一种低压高比容电极箔生产的化成装置及化成方法 (扬州宏远电子股份有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119252843A

(43)申请公布日2025.01.03

(21)申请号202411421998.2

(22)申请日2024.10.12

(71)申请人扬州宏远电子股份有限公司

地址225699江苏省扬州市高邮市开发区

凌波路35号

(72)发明人朱德秋张生徐萍陈玲钱斌

(74)专利代理机构扬州市锦江专利事务所

32106

专利代理师罗健龙

(51)Int.Cl.

H01M4/04(2006.01)

权利要求书2页说明书7页附图7页

(54)发明名称

一种低压高比容电极箔生产的化成装置及

化

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