近代物理实验(16.2)--薄膜的物理气相沉积-磁控溅射法.pptVIP

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  • 2026-11-10 发布于浙江
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近代物理实验(16.2)--薄膜的物理气相沉积-磁控溅射法.ppt

薄膜的物理气相沉积

-磁控溅射法姚斌教授吉林大学物理学院SubstrateThinFilm薄膜及其应用真空蒸发镀膜装置真空蒸镀法物理气相沉积的发展衬底托架钟罩膜厚测量器挡扳蒸发源电源可蒸镀材料:低熔点和汽化点的金属,如:In,Al,Au等膜厚控制范围:微米量级磁控溅射法辉光放电区溅射靶衬底阳极溅射气体至真空泵绝缘磁控溅射镀膜原理示意图磁控溅射装置照片可制备材料:金属、半导体,绝缘体,复合材料膜厚控制范围:几十纳米分子束外延法可制备材料:金属、半导体,绝缘体,复合材料膜厚控制范围:10-1

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