原创力文档光刻技术安全知识测试题及答案
一、单项选择题（每题2分，共20分）
1.光刻工艺中常用的显影液四甲基氢氧化铵（TMAH）属于下列哪类危险化学品？
A.爆炸品
B.强腐蚀性液体
C.易燃气体
D.氧化性物质
答案：B
2.光刻机常用的深紫外（DUV）激光属于激光危险等级中的哪一类？
A.1类（低危险）
B.2类（中危险）
C.3类（高危险）
D.4类（极高危险）
答案：D
解析：光刻机使用的深紫外激光功率较高，属于4类极高危险等级激光，直射、漫反射均可能对人体造成严重伤害。
3.商用正性光刻胶的常规储存条件是？
A.常温避光储存
B.2~8℃冷藏
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