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1 BJT的放大偏置 发射结正偏,集电结反偏 即满足下列电压关系: NPN管:VCB﹥0,VBE﹥0 或VC>VB >VE PNP管: VCB﹤0,VBE﹤0 或 VC<VB<VE 当BJT处在发射结正偏、集电结反偏的放大状态下,NPN管内载流子的运动情况。 放大偏置时的电流关系 (1) 与 的关系 定义共基极直流电流放大系数 为 (2) 与 的关系 定义共发射极直流电流放大系数 为 可推出 与 的关系 例2-1 PNP管直流电路如图2-3所示,图中 。当断开B点时,微安表的读数为240μA,当断开E点时,微安表的读数为6μA,试求该管的 和 。 解:直流电压 极 的方向和大小表明该管处于放大偏置。断开E点时微安表读数是集电结反向饱和电流 ,断开B点时微安表读数是穿透电流 ,即 2.1.3 放大偏置BJT偏压与电流的关系 双极型晶体管是电流控制器件。 控制各极电流变化的真正原因是发射结正向电压的变化。 集电结反向电压的变化对各极电流也有影响。 1、发射结正向电压VBE对各极电流的控制作用 2.集电结反向电压VCB对各极电流的影响 vBE一定时,发射区向基区注入的电子一定,基区E结附近少子浓度一定。 2.2.2 输出特性曲线 2.2.4 温度对BJT特性及参数的影响 1. 温度对 和 的影响 实验测试发现,温度每升高 , 增加约一倍;反之,温度降低 减小。 半导体三极管的结构示意图如图所示。它有两种类型:NPN型和PNP型。 两种类型的三极管 发射结(Je) 集电结(Jc) 基极,用B或b表示(Base) 发射极,用E或e 表示(Emitter); 集电极,用C或c 表示(Collector)。 发射区 集电区 基区 三极管符号,箭头方向为正偏时电流方向 第二章 双极型晶体三极管(BJT) 2.1 BJT原理 B E C N N P 基极 发射极 集电极 基区:较薄,掺杂浓度低 集电区:面积较大 发射区:掺 杂浓度较高 特点总结: ? 发射区的掺杂浓度最高;(高出基区100倍以上, “高掺杂”) ? 集电区掺杂浓度低于发射区,且面积大;(“宽收集”) ? 基区很薄,一般在几个微米至几十个微米,且掺杂浓度最低。(“窄基区、低掺杂”) 管芯结构剖面图 找基极B(电位居中者) 找发射极E(与基极电位差0.3或0.7左右者,若差0.3为锗管;0.7为硅管) 剩下一极为集电极C,若VC>VB >VE 为NPN管; VC<VB<VE为PNP管 判放大偏置BJT类型、材料、电极的方法 2.1.2 放大偏置时 BJT内部载流子的传输过程 内部载流子 的传输过程 三极管的放大作用是在一定的外部条件控制下,通过载流子传输体现出来的。 实现这一传输过程的两个条件是: (1)内部条件:发射区杂质浓度远大于基区杂质浓度,且基区很薄,集电结较宽。 (2)外部条件:发射结正向偏置,集电结反向偏置。 发射区:发射载流子 集电区:收集载流子 基区:传送和控制载流子 放大状态下NPN管内部载流子传输示意图 可得三电极的电流关系 iE= iEN + iEP =iCN+iBN+iEP 穿透电流 忽略ICEO,则 图2-3 例2-1电路图 发射极电流IE与发射结正偏电压VBE 之间满足正偏时PN结的伏安关系 IE、IB和IC 之间基本为比例关系,因此发射结正偏电压VBE 不仅与电流IE,也与电流IB、IC 之间维持指数型非线性关系。 vCB增加时,集电结变宽,基区变窄。基区少子浓度分布曲线变为虚线所示;曲线下的面积代表少子数量,意味着少子数量减少。 虚线决定的少子浓度梯度增加,说明基区少子扩散速度增加,且基区变窄,复合机会更少,iB下降,iC上升 集电结反偏电压的变化引起基区宽度变化,从而影响各极电流的现象称为基区宽度调制效应 2.2 BJT静态特性曲线-在伏安平面上作出的反映晶体管各极直流电流与电压关系的曲线。只适用于直流、低频场合 三极管的三种组态 BJT是三端器件,用双口网络来描述时需将其中一个极作为公共端; BJT静态特性曲线可用仪器测得 可用于判断质量、估算参数 IC mA ?A V V VCE VBE RB I
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