第12章 X射线光谱分析法12.3 光电子能谱与光探针.pptVIP

第十二章  X射线光谱和表面分析法 第三节 光电子能谱与光探针分析法 12.3.1 表面分析 表面分析 12.3.2 光电子能谱分析 两个基本概念：光电离几率和电子逃逸深度 电子逃逸深度 电子结合能 电子结合能 12.3.3 X射线光电子能谱分析法（XPS） 1.谱峰出现规律 2. 谱峰的物理位移和化学位移 谱峰的物理位移和化学位移 3. 电负性对化学位移的影响 4. X射线光电子能谱分析法的应用 特殊样品的元素分析 可从B12中180个不同原子中，检测出其中的一个Co原子 (3)固体化合物表面分析 三种铑催化剂X射线电子能谱对比分析： (4)化学结构分析 XPS仪器结构示意图 12.3.4 紫外光电子能谱分析法（UPS） 精细结构 紫外光电子能谱： 谱带形状与轨道的键合性质 紫外光电子能谱图 内容选择： 12.3.1 概述 12.3.2 光电子能谱分析 12.3.3 X射线光电子能谱分析法 12.3.4 紫外光电子能谱分析法 X-ray spectrometry and surface analysis Photoelectron spectroscopy and photo-probes 技术表面、物理表面、界面； 表征：单原子层～几微米；内部表面，薄膜分析； 建立在：光子、电子、离子与材料表面的相互作用； 电子探针：聚焦至直径为0.1~1?m的电子束。