等离子体喷涂羟基磷灰石涂层的化学不均匀性.pdfVIP

第24卷第3期 无机材料学报 V01．24，No．3 Journalof Materials 2009年5月 Inorganic May。2009 文章编号：1000．324X(2009)034)4974)4 等离子体喷涂羟基磷灰石涂层的化学不均匀性 吕宇鹏，肖桂勇，李士同 (山东大学材料科学与工程学院，济南250061) 摘要：采用等离子喷涂法制备了羟基磷灰石(HA)涂层，将涂层沿平行和垂直表面方向抛光试样表面，用电子探针微 分析仪和x射线衍射仪等手段研究了试样的显微组织、成分分布和相组成等．结果表明，等离子喷涂HA涂层中存在 化学成分和相组成等的不均匀性，表现为显微组织中衬度的差别．其中低磷、低氧区主要由非晶相、分解相和重结晶相 组成．等离子喷涂时，HA粉末颗粒内外熔融程度的差异导致涂层相组成的不均性．热处理可消除涂层组分的不均匀 性，但会导致