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中物院电子工程研究所MEMS工艺报价单2011.pdfVIP

中物院电子工程研究所MEMS工艺报价单2011.pdf

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中物院电子工程研究所MEMS 实验室部分工艺收费标准 收费标准 项目名称 工序情况 备注 基准费用 额外附加费用 Φ100mm 双抛片 200 元/片 Φ100mm7740 玻璃 350 元/片 材料 视当时市场价格而定 5”铬版 1500 元/片 封装管壳 60 元/套 标准清洗 200 元/批 每批25 片 带金属清洗 200 元/批 每批6 片 SiO2、玻璃BHF 腐蚀 200 元/批 100 元/500nm 每批5 片 清洗腐蚀 KOH 腐蚀 200 元/批 300 元/20μm 每批10 片 金属腐蚀 200 元/片 Lift-off 剥离 200 元/片 正胶(2μm 线宽,对准精度单面2μm 、 单面套刻:100 元/片 300 元/片 双面4μm ) 双面套刻:300 元/片 光刻 湿法去胶(<2μm ) 300 元/批 25 片/批 等离子体去胶(<2μm ) 600 元/批 5 片/批 Al 、Ti 等普通金属 10 元/10nm 溅射 100 元/片 Pt 、Au 等稀贵金属 50 元/10nm ICP (<20μm ) 500 元/片 100 元/10μm (超出20μm 部分) 刻蚀 RIE (Si N <0.2μm 、SiO <0.5μm 、 3 4 2 200 元/片 200 元/0.2μm (超出厚度部分) Poly-Si <0.5μm

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