柠檬酸浓度对化学浴沉积硫化铟薄膜形成机理的影响研究.pdfVIP

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  • 2017-10-14 发布于浙江
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柠檬酸浓度对化学浴沉积硫化铟薄膜形成机理的影响研究.pdf

第27卷第9期 无 机 化 学 学 报 V01.27No.9 201 OF 1685—1690 1年9月 CHINESEJOURNALINORGANICCHEMISTRY 柠檬酸浓度对化学浴沉积硫化铟薄膜形成机理的影响研究 汪 浩★’1 高志华1,2刘晶冰1 (1北京工业大学材料科学与工程学院,北京100124) (2衡水学院应用化学系,衡水053000) 摘要:以柠檬酸为配位剂,在酸性条件下采用化学浴沉积方法在FTO玻璃衬底上制得硫化铟薄膜,分别采用XRD、SEM、UV等 手段对薄膜相结构、形貌和薄膜的透光率进行了表征。结果表明薄膜为立方结构的肛In2s3,薄膜均一连续,呈网状表面形貌,透 光率随厚度增加而递减,带隙宽度介于2.5。2.6eV之间。主要研究了配位剂的浓度对薄膜形成机理的影响,结果表明:柠檬酸浓 度较低时,柠檬酸根与铟离子的配位平衡是整个反应的速控步骤;当柠檬酸浓度较高时,硫代乙酰胺与酸作用生成硫离子的反 应是整个反应的速控步骤。 关键词:化学浴;薄膜;硫化铟;柠檬酸;形成机理 中图分类号:0614.37 文献标识码:A 文章编号:1001-4861(2011)09-1685-06 EffectofConcentrationofCitricAcidontheFormationMechanismof ThinFilmChemicalBath In2s3 by Deposition GAOZhi·Hua啦LIU WANGHao+1 Jing-Bin91 (1CollegeofMaterialsScienceEngineering,BeijingUniversityofTechnology,可打皤100124,吼㈣ e【kpⅢ拥他毗ofApplyChemistry,HengshuiUniversi姆,Hengshui,Hebei053000,China) viachemical methodontllen’0 inthe Abstract:AseriesofIn2S3thinfilmswereobtained bath glass deposition acidic citricacidasthe were tocharacterize solution,witll agent.XRD,SEM,UVadopted phase complexing and transmissionofthethinfilms.neresultsindicatedthatallthethinfilmswere structure.morphologyoptical cube uniform,network-like offilmsWas the structured/3-In2S3,with morphology.Transmissionstep-down衍tII 2.5 of thicknessoffilms werecalculatedbe

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