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我国类金刚石薄膜主要制备技术及研究现状.ppt

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我国类金刚石薄膜主要制备技术及研究现状 汇报人:王培东 指导老师:胡鹏飞 主要内容 一、类金刚石薄膜介绍 二、类金刚石薄膜制备技术 三、类金刚石薄膜应用 四、类金刚石薄膜应用展望 一、类金刚石薄膜介绍 类金刚石薄膜(Diamond-Like Carbon)是金刚石的sp3杂化和石墨sp2杂化两种结合键作为骨架构成的非晶态碳膜,简单地讲,由纳米级的金刚石和碳混合形成,金刚石占20%-80%。由sp3结合的金刚石和sp2结合的石墨与H(氢)组成的三元相图右图: DLC具有一系列类似于金刚石的性质,如硬度高、热导率高、摩擦系数小、耐腐蚀、宽光谱透过率高、抗激光损伤阈值高、耐辐射等。 DLC的主要缺点是: (1)内应力很大,因此厚度受到限制,一般只能达到1um~21um以下; (2)热稳定性较差。 二、类金刚石薄膜制备技术 化学气相沉积法 类金刚石薄膜主要采用低压化学气相沉积(CVD)技术制备。低压CVD技术包括热丝CVD法、等离子体CVD法、离子束蒸镀法、光/激光CVD法附加活性氢激光CVD法等。目前,CVD法制作金刚石薄膜已取得丰硕成果,但作为红外光学薄膜应用还需进一步解决金刚石薄膜对红外光学材料的粘着性和光散射的问题。 热丝CVD法 合成装置 1-加热炉 2-玻璃罩 3-钨灯丝 4-基片 5-硅槽 6-热电偶 7-氧化铝棒(管) 8-馈气口 9-接电源 10-接真空量规处 11-接真空泵处 利用热丝CVD法,采用氢稀释过的甲烷、乙醇等含氧的有机化合物作原料,进行了沉积金刚石薄膜的实验。结果用氢稀释过的甲烷作原料,金刚石薄膜的沉积速度为数μm/h(微米/小时);而采用乙醇等含氧的有机化合物作原料,金刚石薄膜的沉积速度提高到了数十μm/h。  等离子体CVD法 该法沉积合成金刚石薄膜的条件与热丝CVD法的情况类似。 离子束蒸镀法 离子束蒸镀法类金刚石膜蒸镀设备原理:1-电源 2-等离子 3-离子加速电极 4-聚焦偏转系统 5-离子减速栅极6-基片 7-高真空室 8-扩散泵 9-电子枪 10-被涂材料。 光、激光CVD法  利用光、激光CVD法制成的金刚石薄膜通过扫描电子显微图像和电子衍射评价,薄膜的结晶性已得到了确认。  激光法制备DLC膜的发展趋势 DLC膜的沉积方法可分为物理沉积法和化学沉积法两大类。化学沉积法已十分成熟,但由于化学法沉积的DLC膜必然含氢,导致膜层化学稳定性、热稳定性、硬度、附着力较差。此外,化学法均需要在高温下(400oC)沉积,对于不耐高温的材料(如玻璃、硫化锌等)无法在上面镀DLC膜;对于耐高温的材料,虽然化学法可以镀膜,但由于DLC膜热膨胀系数很小,和衬底热膨胀系数差异大,沉积完成后,膜内部会产生较大的热应力,甚至导致薄膜起皮、剥落。因此,世界各国近年来都在积极开展可以制备无氢DLC膜的物理沉积法研究。 脉冲激光沉积法(Pulsed Laser Deposition,PLD) 属于一种物理沉积法,它是采用激光聚焦烧蚀真空室内的石墨或其他含碳靶材,产生碳等离子体,等离子体定向膨胀发射,在衬底上形成DLC膜。它可以在室温下进行,从而能将DLC膜沉积在玻璃等易熔材料上,极大地扩展了DLC膜的应用领域 。对于耐高温的衬底,脉冲激光沉积法相对于化学法具有热应力小的优点。同时,它还具有不引入杂质、便于制备复合成分薄膜、可控性好、沉积速度快等优点,因此日益得到重视和发展。 三、类金刚石薄膜应用 1.精密模具:注塑成型模具,冲压模具,光学级模具,光盘模具,玻璃成型模具,铝镁合金加工模具,粉末冶金模具,空调器翻边模具,半导体封装模具,吹塑成型模具,铍铜材料模具及产品。 2.精密机械:精密轴承,纺织设备及零部件,压缩机螺杆,滑片,泵密封圈,叶片,缝制设备及零部件,弹簧片,精密传动机构。 3.切削刀具:加工有色金属的道具,加工PCB材料的道具。 4.工量具:卡尺,卡规,塞规,治具。 5.医疗设备和器具:手术刀片,手术剪,心脏瓣膜,人工关节,血管支架。 6.内燃机工业:燃料喷射系统(气门挺杆, 柱塞,喷油嘴),动力传动系统(齿轮 轴承 凸轮轴),活塞部件(活塞环,活塞销),门扣锁,内饰。 7.娱乐健身:扬声器振膜,移动硬盘,光盘,高尔夫球具,自行车部件,剃须刀片。 8.光学:红外增透膜,减反射膜,玻璃镀膜,镜片镀膜,亚克力镀膜,保护膜。 9.装饰镀膜:手机外壳,高档手表,室内外五金卫浴产品,饰品。 10.航空航天 :飞机,导弹整流罩镀膜,卫星,太阳能电池镀膜。 四、类金刚石薄膜应用展望 类金刚石薄膜在牙科方面研究展望 牙科车针是口腔科最常用、使用量最大的小器械,但普遍存在耐磨性低、寿命短的缺点。类金刚石膜(diamond—like carbon,简称DLC),亦称金刚石状碳

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