射线衍射、射线光电子能谱对%薄膜形成机理的研究.pdfVIP

射线衍射、射线光电子能谱对%薄膜形成机理的研究.pdf

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第 卷第 期 红外与激光工程 年 月 Y ! %! % [@I ( Y1@ ( ! 7DE;EHK ;K 6;CHE B=-HHE-= \HT (%! 文章编号: ( ) !#$%%# %! !$$’ 射线衍射、 射线光电子能谱对 薄膜形成机理的研究 ! ! #$% ! ! ! % % 刘 爽 ,宁永功 ,陈 艾 ,龙再川 ,杨家德 ( 电子科技大学信息材料工程学院,四川 成都 !( ! !)’ % ( 重庆光电技术研究所,四川 重庆 ’!) ! 摘要:促使物相尽可能地向*+ ,- 和*+,- 转化,是*+,- 薄膜工艺研究中的重要工作。文中通过 % 用 射线衍射( )、 射线光电子能谱( )微观分析手段对 薄膜形成物相分步观察,研究 . ./0 . .*, *+,- 了长时间变温退火、真空退火以及真空和保护气体( 和 )退火等工艺条件对溅射 薄膜物相 1 2 *+,- % % 形成的影响。结果表明,氢气气氛退火能提高薄膜质量;真空退火可以减少氧元素对成膜的影响。 关 键 词: 射线衍射; 射线光电子能谱; 薄膜 . . *+,- 中图分类号: 文献标识码: 3’4’ 5 $#’( )* #+, -)./0#%)* /,1+0*%2/ )- #$% -%3/ 4( !5.0( ’%--.01#%)* 0*’ !5.0( 6+)#) 26,1#./ , , 678 ,9:;= 171 ?@=$=@= A2B1 5- ( ,

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