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第 卷第 期                                         红外与激光工程                                             年 月 
  Y    !                                                                                      %!  % 
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    文章编号:           ( ) 
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             射线衍射、 射线光电子能谱对                                      薄膜形成机理的研究 
          !                 !                              #$% 
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                                刘 爽 ,宁永功 ,陈 艾 ,龙再川 ,杨家德 
                         ( 电子科技大学信息材料工程学院,四川 成都 
                          !(                                     !        !)’ 
                              % ( 重庆光电技术研究所,四川 重庆 ’!) 
                                                          ! 
          摘要:促使物相尽可能地向*+ ,- 和*+,- 转化,是*+,- 薄膜工艺研究中的重要工作。文中通过 
                                      % 
      用 射线衍射( )、 射线光电子能谱( )微观分析手段对                                     薄膜形成物相分步观察,研究 
        .           ./0    .                  .*,                  *+,- 
      了长时间变温退火、真空退火以及真空和保护气体( 和 )退火等工艺条件对溅射                                                薄膜物相 
                                                       1    2                          *+,- 
                                                        %     % 
      形成的影响。结果表明,氢气气氛退火能提高薄膜质量;真空退火可以减少氧元素对成膜的影响。 
          关 键 词:             射线衍射; 射线光电子能谱;                       薄膜 
                           .             .                    *+,- 
          中图分类号:               文献标识码: 
                      3’4’                  5 
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