辉光放电质谱法在无机非金属材料分析中的应用陈刚3葛爱景卓尚军.pdfVIP

( ) 第 32 卷 分析化学 FENXI HUAXUE 　研究报告 第 1 期 2004 年 1 月 Chinese Journal of Analytical Chemistry 107～112 辉光放电质谱法在无机非金属材料分析中的应用 陈　刚 　葛爱景　卓尚军　王佩玲 ( 中国科学院上海硅酸盐研究所 ,上海 200050) ( ) 摘 　要 　辉光放电质谱法 GDMS 作为一种固体样品直接分析技术 , 已广泛应用于金属、半导体等材料的痕量 和超痕量杂质分析。近年来 ,随着制样方法和离子源装置的改进 , GDMS 同样也能很好地应用于玻璃、陶瓷、 氧化物粉末等非导体材料的成分分析。简介了 GDMS 的基本原理和分析特点 ,概述了 GDMS 在无机非金属材 料分析的方法以及应用情况。 关键词 　辉光放电质谱 ,非金属材料 ,应用 ,评述 1 　引　　言 辉光放电质谱法( ) GDMS 被认为是目前对固体导电材料直接进行痕量及超痕量元素分析的最有效 的手段1 。由于其可以直接固体进样 ,近 20 年来已广泛应用于高纯金属、合金等材料的分析2 ～12 。 ( ) 辉光放电质谱由辉光放电离子源和质谱分析器两部分组成。辉光放电离子源 GD 源 利用惰性气 ( ) 体 一般是氩气 ,压强约 10～100Pa 在上千伏特电压下电离产生的离子撞击样品表面使之发生溅射 ,溅 射产生的样品原子扩散至等离子体中进一步离子化 ,进而被质谱分析器收集检测。辉光放电属于低压 放电 ,放电产生的大量电子和亚稳态惰性气体原子与样品原子频繁碰撞 ,使样品得到极大的溅射和电 离。同时 , 由于 GD 源中样品的原子化和离子化分别在靠近样品表面的阴极暗区和靠近阳极的负辉区 ( 两个不同的区域内进行 ,也使基体效应大为降低。GD 源对不同元素的响应差异较小 一般在 10 倍以 ) ( ) 内 ,并具备很宽的线性动态范围 约 10 个数量级 ,因此 ,即使在没有标样的情况下 ,也能给出较准确的 多元素半定量分析结果 ,十分有利于超纯样品的半定量分析。 ( ) ( ) 13 GD 源就其供电方式而言 ,可分为直流辉光放电 DCGD 、射频辉光放电 RFGD 和脉冲辉光放 ( ) 14 电 pulsedGD 。后二者与质谱的结合还处于实验室阶段 , 尚无商品化的仪器出现。部分DCGDMS 配备四极杆质谱 ,其结构简单 ,质谱与辉光放电离子源的结合较容易实现 ,但由于四极杆质谱为单位质 量分辨 ,测定干扰较大 ,检出限也不理想。Thermo Elemental 公司于 80 年代中期推出了第一台高分辨辉 光放电质谱仪 VG9000 15 ,采用了反向双聚焦磁质谱仪 ,常规质量分辨率为 4000 ,最高可达到 10000 ,元 素典型检出限可达 0. 01 ng/ g 。VG9000 配备 Farady cup 和 Daly 两种检测器 ,可同时给出从主量到痕量元 素的分析结果。这也是目前唯一采用高分辨磁质谱仪的商品化 GDMS 。 2 　无机非金属材料的 GDMS 分析应用